四氟化碳是一種鹵代烴，化學式CF4。它既可以被視為一種鹵代烴、鹵代甲烷、全氟化碳，也可以被視為一種無機化合物。零下198 °C時，四氟化碳具有單斜的結構。常溫常壓下穩定，避免強氧化劑、易燃或可燃物。不燃氣體，遇高熱后容器內壓增大，有開裂、爆炸危險?；瘜W性質穩定，不燃。常溫下只有液氨-金屬鈉試劑能發生作用。儲存于陰涼、通風的不燃氣體專用庫房。遠離火種、熱源。庫溫不宜超過30℃。應與易（可）燃物、氧化劑分開存放，切忌混儲。儲區應備有泄漏應急處理設備。是微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體，四氟甲烷高純氣及四氟甲烷高純氣、高純氧的混合氣，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池生產、激光技術、低溫制冷、泄漏檢驗、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。
